聚焦离子束FIB检测
2018年失效分析技术分享活动，仪准科技自2012年在北京建立以来，一直受到半导体行业内同行们的支持与鼓励，这6年来，有赞美，有夸奖，有磕绊，也有不足；感谢大家一直以来的包容与支持，同行们之间的反馈与意见是我们进步的较大推动力，
我们也一直在半导体行业中努力吸收新鲜知识，紧跟行业潮流，完善公司设备及技术要求，尽我们的较大努力，去达到实验标准，
聚焦离子束FIB设备测试实验室，仪准科技特此推出2018年年中的优惠活动，以此来回馈新老顾客对我们的支持，
失效分析常用项目
FIB测试服务已经到货安装一台FEI最先进型号的双束FIB，服务于北京市场，届时能有45nm线路修补能力。
Helios NanoLab是目前最强大的场发射扫描(FESEM)+聚焦离子束(FIB)"双束"显微镜系统, 是FESEM/FIB 应用的前沿工具:
- 无与伦比的成像性能
- 二维和三维 纳米分析
- 高级纳米原型设计
- 终极的样本制备性能
技术参数：
1.分辨率
在最适佳工作距离下：
0.9nm @ 15kV
1.4nm @ 1kV
在束交点(电子束+离子束)的工作距离下：
1.0nm @ 15kV, 束交点工作距离 4mm
5nm FIB @ 30kV，束交点工作距离 16.5mm
2.加速电压范围：
SEM: 30kV 至 350V
FIB: 30kV 至 500V
3.探测器：
新一代TLD二次电子/背散射电子探测器
样品室红外CCD
可选CDEM离子探测器、STEM、固体背散射探测器等
4.气体注入系统（GIS）：
Pt沉积气体
W沉积气体
C沉积气体
金属增强蚀刻气体
氧化物增强蚀刻气体
(FEI目前可提供多达11种气体)
5.150mm(6")压电陶瓷马达驱动的全对中样品台
聚焦离子束FIB设备测试实验室主要特点：
1. Schottky FESEM第一次达到亚纳米分辨率
2. FIB出色的分辨率以及最大范围的束流和加速电压
3. 出色的成像质量和系统稳定性
4. 新集成的电子和离子束16 位数字图案生成器
5. 最薄的样品制备，非常低的样品损伤、高速度、并且操作轻松
6. 二维和三维的纳米表征和纳米原型制作达到了新的极限
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