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实验室研磨机比普通的研磨机的速度达到4-5倍以上

实验室研磨机比普通的研磨机的速度达到4-5倍以上



实验室研磨机比普通的研磨机的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,较高转速可以达到14000RPM。


实验室研磨机是zhuan门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室研磨机的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。实验室研磨机的定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。CM2000/4实验室研磨机的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。



上海依肯机械设备主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一高剪切分散乳化机,二均质机,三 粉液混合机,四锥体磨,五 搅拌机,六干燥机等系列。为混合,分散,均质,悬浮,乳化,湿磨,粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。


上海依肯机械设备公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CMO2000系列,研磨头的表面涂上了一层ji其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物,陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000实验室研磨机能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比研磨机CM2000还小。


实验室研磨机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定,转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力,摩擦力,高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化,分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。




从设备角度分析,影响研磨效果的因素:

1磨头的形式(卧式和立式)

2磨头的剪切速率

3磨头的齿形结构(见磨头结构)

4物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间

5循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)

由上可知,研磨速率取决于以下因素:

–磨头的线速率

–在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 (相对而言)

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60








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